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單晶硅超聲波清洗機

2020年02月13日
單晶硅超聲波清洗機是一種用于清洗晶硅片等精密物件的清洗設(shè)備，從晶棒上切割下來的單晶硅片經(jīng)過倒角、雙面研磨、拋光等工序加工后，其表面會附著各種污染物。隨著集成電路對硅片質(zhì)量要求越來越高，對硅片表面的污染物有著極其嚴格的要求和控制。如果單晶硅片沒有清洗干凈則會嚴重影響器件的質(zhì)量和成品率，清洗也成為單晶硅片制造過程中重要的步驟。

單晶硅超聲波清洗機是通過超聲波振動在液體中形成微小的氣泡，這些氣泡由于超聲波空化作用快速地破裂而產(chǎn)生微小的擦洗從而出去單晶硅片表面的污染物。超聲波清洗技術(shù)在半導體行業(yè)中已經(jīng)是一種廣泛應用到的清洗方式，它具有清洗效果好、操作簡單等優(yōu)勢。在單晶硅片的制作過程中大部分步驟為清洗工藝，在清洗硅片中應正確的使用單晶硅片超聲波清洗機，單晶硅片的潔凈度對半導體器件的性能起著至關(guān)重要的作用。

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